BS-4020A Trinokulares industrielles Wafer-Inspektionsmikroskop
Einführung
Das industrielle Inspektionsmikroskop BS-4020A wurde speziell für die Inspektion von Wafern unterschiedlicher Größe und großen Leiterplatten entwickelt. Dieses Mikroskop bietet ein zuverlässiges, komfortables und präzises Beobachtungserlebnis. Mit perfekt ausgeführter Struktur, hochauflösendem optischem System und ergonomischem Betriebssystem realisiert BS-4020 professionelle Analysen und erfüllt verschiedene Anforderungen der Forschung und Inspektion von Wafern, FPD, Schaltkreispaketen, Leiterplatten, Materialwissenschaften, Präzisionsguss, Metallkeramik, Präzisionsformen, Halbleiter und Elektronik usw.
1. Perfektes mikroskopisches Beleuchtungssystem.
Das Mikroskop verfügt über eine Kohler-Beleuchtung und sorgt für eine helle und gleichmäßige Beleuchtung im gesamten Sichtfeld. Koordiniert mit dem Unendlichkeitsoptiksystem NIS45, einem Objektiv mit hoher NA und LWD kann eine perfekte mikroskopische Abbildung bereitgestellt werden.
Merkmale
Helles Feld der reflektierten Beleuchtung
BS-4020A verfügt über ein hervorragendes optisches Unendlichkeitssystem. Das Sichtfeld ist gleichmäßig, hell und weist einen hohen Farbwiedergabegrad auf. Es eignet sich zur Beobachtung undurchsichtiger Halbleiterproben.
Dunkles Feld
Es kann hochauflösende Bilder bei der Dunkelfeldbeobachtung erstellen und eine hochempfindliche Prüfung von Fehlern wie feinen Kratzern durchführen. Es eignet sich zur Oberflächeninspektion von Proben mit hohen Ansprüchen.
Helles Feld der Durchlichtbeleuchtung
Bei transparenten Proben wie FPD und optischen Elementen kann die Hellfeldbeobachtung durch einen Kondensor für durchgelassenes Licht realisiert werden. Es kann auch mit DIC, einfacher Polarisation und anderem Zubehör verwendet werden.
Einfache Polarisation
Diese Beobachtungsmethode eignet sich für doppelbrechende Proben wie metallurgische Gewebe, Mineralien, LCD und Halbleitermaterialien.
Auflichtbeleuchtung DIC
Diese Methode wird verwendet, um kleine Unterschiede bei Präzisionsformen zu beobachten. Die Beobachtungstechnik kann den winzigen Höhenunterschied, der bei normaler Beobachtung nicht sichtbar ist, in Form von Prägungen und dreidimensionalen Bildern zeigen.
2. Hochwertige Semi-APO- und APO-Hellfeld- und Dunkelfeldobjektive.
Durch den Einsatz der Mehrschichtbeschichtungstechnologie können die Semi-APO- und APO-Objektive der NIS45-Serie sphärische Aberration und die chromatische Aberration von Ultraviolett bis Nahinfrarot kompensieren. Die Schärfe, Auflösung und Farbwiedergabe der Bilder kann garantiert werden. Das Bild ist mit hoher Auflösung und flachem Bild für verschiedene Vergrößerungen erhältlich.
3. Das Bedienfeld befindet sich an der Vorderseite des Mikroskops und ist bequem zu bedienen.
Das Bedienfeld des Mechanismus befindet sich an der Vorderseite des Mikroskops (in der Nähe des Bedieners), was die Bedienung bei der Beobachtung der Probe schneller und bequemer macht. Und es kann die Ermüdung reduzieren, die durch Langzeitbeobachtungen und den herumwirbelnden Staub, der durch einen großen Bewegungsbereich entsteht, verursacht wird.
4. Ergo neigbarer trinokularer Betrachtungskopf.
Der neigbare Ergo-Beobachtungskopf kann die Beobachtung komfortabler machen und so Muskelverspannungen und Beschwerden, die durch langes Arbeiten entstehen, minimieren.
5. Fokussierungsmechanismus und Feineinstellungsgriff des Tisches mit niedriger Handposition.
Der Fokussierungsmechanismus und der Feineinstellungsgriff des Tisches übernehmen das Design mit niedriger Handposition, das dem ergonomischen Design entspricht. Der Benutzer muss bei der Bedienung nicht die Hände heben, was ein Höchstmaß an Komfort bietet.
6. Die Bühne verfügt über einen eingebauten Haltegriff.
Der Greifgriff kann den schnellen und langsamen Bewegungsmodus des Tisches realisieren und großflächige Proben schnell lokalisieren. Bei Verwendung des Feineinstellgriffs des Tisches ist es nicht länger schwierig, die Proben schnell und genau zu lokalisieren.
7. Übergroßer Tisch (14 x 12 Zoll) kann für große Wafer und Leiterplatten verwendet werden.
Die Bereiche der Mikroelektronik und Halbleiterproben, insbesondere Wafer, sind in der Regel groß, sodass ein gewöhnlicher metallografischer Mikroskoptisch ihre Beobachtungsanforderungen nicht erfüllen kann. BS-4020A verfügt über eine übergroße Bühne mit großem Bewegungsbereich und ist bequem und einfach zu bewegen. Damit ist es ein ideales Instrument zur mikroskopischen Beobachtung großflächiger Industrieproben.
8. Im Lieferumfang des Mikroskops ist ein 12-Zoll-Waferhalter enthalten.
Mit diesem Mikroskop können 12-Zoll-Wafer und kleinere Wafer beobachtet werden. Mit dem Tischgriff mit schneller und feiner Bewegung kann die Arbeitseffizienz erheblich verbessert werden.
9. Antistatische Schutzhülle kann Staub reduzieren.
Industrieproben sollten weit entfernt von schwebendem Staub sein, und ein wenig Staub kann die Produktqualität und Testergebnisse beeinträchtigen. BS-4020A verfügt über eine großflächige antistatische Schutzabdeckung, die schwebenden Staub und herabfallenden Staub verhindern kann, um die Proben zu schützen und das Testergebnis genauer zu machen.
10. Längerer Arbeitsabstand und Objektiv mit hoher NA.
Die elektronischen Komponenten und Halbleiter auf Leiterplattenproben weisen Höhenunterschiede auf. Daher wurden für dieses Mikroskop Objektive mit großem Arbeitsabstand verwendet. Um den hohen Anforderungen industrieller Proben an die Farbwiedergabe gerecht zu werden, wurde im Laufe der Jahre die Mehrschichtbeschichtungstechnologie weiterentwickelt und verbessert und es werden BF&DF-Semi-APO- und APO-Objektive mit hoher NA übernommen, die die tatsächliche Farbe der Proben wiederherstellen können .
11. Verschiedene Beobachtungsmethoden können unterschiedliche Testanforderungen erfüllen.
| Beleuchtung | Helles Feld | Dunkles Feld | DIC | Fluoreszierendes Licht | Polarisiertes Licht |
| Reflektierte Beleuchtung | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ |
| Durchlichtbeleuchtung | ○ | - | - | - | ○ |
Anwendung
Das industrielle Inspektionsmikroskop BS-4020A ist ein ideales Instrument für die Inspektion von Wafern unterschiedlicher Größe und großen Leiterplatten. Dieses Mikroskop kann in Universitäten, Elektronik- und Chipfabriken für die Forschung und Inspektion von Wafern, FPD, Schaltkreispaketen, Leiterplatten, Materialwissenschaften, Präzisionsguss, Metallkeramik, Präzisionsformen, Halbleitern und Elektronik usw. eingesetzt werden.
Spezifikation
| Artikel | Spezifikation | BS-4020A | BS-4020B | |
| Optisches System | NIS45 Unendlich farbkorrigiertes optisches System (Röhrenlänge: 200 mm) | ● | ● | |
| Betrachtungskopf | Ergo neigbarer Trinokularkopf, einstellbar in der Neigung von 0–35°, Pupillenabstand 47–78 mm; Teilungsverhältnis Okular:Trinokular=100:0 oder 20:80 oder 0:100 | ● | ● | |
| Seidentopf-Trinokularkopf, 30° geneigt, Pupillenabstand: 47 mm–78 mm; Teilungsverhältnis Okular:Trinokular=100:0 oder 20:80 oder 0:100 | ○ | ○ | ||
| Seidentopf-Binokularkopf, 30° geneigt, Augenabstand: 47 mm–78 mm | ○ | ○ | ||
| Okular | Superweitwinkelokular SW10X/25mm, Dioptrien einstellbar | ● | ● | |
| Superweitwinkelokular SW10X/22mm, Dioptrien einstellbar | ○ | ○ | ||
| Extraweites Feldplanokular EW12,5X/17,5 mm, Dioptrien einstellbar | ○ | ○ | ||
| Weitwinkelokular WF15X/16mm, Dioptrien einstellbar | ○ | ○ | ||
| Weitwinkelokular WF20X/12mm, Dioptrien einstellbar | ○ | ○ | ||
| Objektiv | NIS45 Infinite LWD Plan Semi-APO Objective (BF & DF), M26 | 5X/NA=0,15, WD=20mm | ● | ● |
| 10X/NA=0,3, WD=11mm | ● | ● | ||
| 20X/NA=0,45, WD=3,0mm | ● | ● | ||
| NIS45 Infinite LWD Plan APO Objective (BF & DF), M26 | 50X/NA=0,8, WD=1,0mm | ● | ● | |
| 100X/NA=0,9, WD=1,0mm | ● | ● | ||
| NIS60 Infinite LWD Plan Semi-APO Objective (BF), M25 | 5X/NA=0,15, WD=20mm | ○ | ○ | |
| 10X/NA=0,3, WD=11mm | ○ | ○ | ||
| 20X/NA=0,45, WD=3,0mm | ○ | ○ | ||
| NIS60 Infinite LWD Plan APO Objective (BF), M25 | 50X/NA=0,8, WD=1,0mm | ○ | ○ | |
| 100X/NA=0,9, WD=1,0mm | ○ | ○ | ||
| Nasenstück | Rückwärts gerichteter Sextuple-Objektivrevolver (mit DIC-Steckplatz) | ● | ● | |
| Kondensator | LWD-Kondensator NA0,65 | ○ | ● | |
| Durchlichtbeleuchtung | 40W LED-Netzteil mit Glasfaser-Lichtleiter, Intensität einstellbar | ○ | ● | |
| Reflektierte Beleuchtung | Auflicht-Halogenlampe 24 V/100 W, Köhler-Beleuchtung, mit 6-Positionen-Revolver | ● | ● | |
| 100W-Halogenlampenhaus | ● | ● | ||
| Auflicht mit 5-W-LED-Lampe, Köhler-Beleuchtung, mit 6-Positionen-Revolver | ○ | ○ | ||
| Hellfeldmodul BF1 | ● | ● | ||
| Hellfeldmodul BF2 | ● | ● | ||
| DF-Dunkelfeldmodul | ● | ● | ||
| Eingebauter ND6-, ND25-Filter und Farbkorrekturfilter | ○ | ○ | ||
| ECO-Funktion | ECO-Funktion mit ECO-Taste | ● | ● | |
| Fokussieren | Koaxiale Grob- und Feinfokussierung in niedriger Position, Feinteilung 1 μm, Bewegungsbereich 35 mm | ● | ● | |
| Bühne | 3-lagiger mechanischer Tisch mit Haltegriff, Größe 14 x 12 Zoll (356 x 305 mm); Bewegungsbereich 356 mm x 305 mm; Leuchtfläche für Durchlicht: 356x284mm. | ● | ● | |
| Waferhalter: Kann zur Aufnahme von 12-Zoll-Wafern verwendet werden | ● | ● | ||
| DIC-Kit | DIC-Kit für Auflichtbeleuchtung (verwendbar für 10X-, 20X-, 50X-, 100X-Objektive) | ○ | ○ | |
| Polarisationsset | Polarisator für Auflichtbeleuchtung | ○ | ○ | |
| Analysator für Auflichtbeleuchtung, 0-360° drehbar | ○ | ○ | ||
| Polarisator für Durchlichtbeleuchtung | ○ | ○ | ||
| Analysator für Durchlichtbeleuchtung | ○ | ○ | ||
| Sonstiges Zubehör | 0,5-facher C-Mount-Adapter | ○ | ○ | |
| 1X C-Mount-Adapter | ○ | ○ | ||
| Staubschutz | ● | ● | ||
| Netzkabel | ● | ● | ||
| Kalibrierungsschieber 0,01 mm | ○ | ○ | ||
| Probenpresser | ○ | ○ | ||
Hinweis: ● Standard-Outfit, ○ optional
Beispielbild
Dimension
Einheit: mm
Systemdiagramm
Zertifikat
Logistik
